近日，天骄清美“纳米氧化铈抛光液及其制备方法和应用”荣获国家发明专利授权，标志着该公司在高端稀土抛光材料领域再次取得突破。

 随着5G、物联网、人工智能等新技术的迅猛发展，集成电路的应用范围持续扩大，市场需求日益增长。在集成电路制造过程中，化学机械抛光技术通过对表面平坦度与光滑度的精确控制，保障了后续工艺的精确性与一致性，对提高产品良率、降低故障率具有关键作用。然而，传统抛光液在去除速率、表面粗糙度控制以及抛光后清洗效率等方面存在一定局限，难以同时满足高抛光质量与易清洗的需求。天骄清美积极响应市场需求，同复旦大学、内蒙古大学针对芯片用纳米氧化铈抛光液开展基础研究，建立了自治区级创新联合体，成功开发出新型纳米氧化铈抛光液，该产品可适用于半导体及集成电路抛光工艺，在抛光效果和清洗性能方面实现良好平衡。

“目前，我们生产的纳米氧化铈抛光液在性能方面得到显著提升，抛光去除速率较传统产品提升25%以上，且能将抛光后表面粗糙度控制在0.5纳米以下，客户反馈产品稳定性强，能有效减少生产环节的返工率。”天骄清美研发试验部区域技术主办周薇介绍道，“下一步，我们将扩建洁净生产线，为进一步扩大产能做好准备，同时组建专项市场开拓团队，重点对接下游半导体产业集群，推动产品进入供应链体系；此外，还将联合高校深化研发，针对7纳米及以下制程芯片的抛光需求，优化产品配方，进一步提升核心竞争力。”

 近年来，天骄清美依托企业工程技术中心和多个产学研合作平台，与高校院所开展联合攻关，纳米氧化铈抛光液、精密光学用纳米氧化铈、高世代液晶玻璃基板用抛光材料等高端应用领域产品相继实现重大技术突破，不断拓展高端市场应用。下一步，天骄清美将持续推进技术创新与产业创新深度融合，聚焦高端稀土抛光材料加强关键核心技术研发，努力在关键领域保持技术领先优势，为北方稀土打造世界一流稀土领军企业贡献更大力量。